一种非成像型激光匀质系统及匀质元件的制作方法.pdfVIP

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2023-07-02 发布于四川
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一种非成像型激光匀质系统及匀质元件的制作方法.pdf

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本申请公开了一种非成像型激光匀质系统及匀质元件的制作方法，该激光匀质系统包括激光器、以及依次设置的小孔、扩束系统、匀质元件、匀质凸透镜、以及屏幕。匀质元件包括金属铱薄膜、以及制备于金属铱薄膜上的微透镜阵列，微透镜阵列采用金刚石衬底材料，金刚石衬底材料和金属铱薄膜通过共价键键合。该方法包括步骤：制备金属铱薄膜；在金属铱薄膜上直接生长单晶金刚石；将单晶金刚石样品研磨抛光；在单晶金刚石样品上制备微透镜阵列；本申请解决了现有技术中反射膜和衬底材料结合力较低，而导致激光匀质系统的损伤阈值低的问题。本发明的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113467095 A (43)申请公布日 2021.10.01 (21)申请号 202110639970.6 (22)申请日 2021.06.08 (71)申请人西安交通大学地址