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- 2023-07-02 发布于四川
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本发明公开了一种等离子体处理装置，等离子体处理装置包括真空反应腔和设于真空反应腔的上电极与下电极，上电极与下电极之间形成一处理区域，上电极与下电极之间产生射频电场，用以将反应气体解离为等离子体，真空反应腔内设置一隔离环组件，隔离环组件包括：第一隔离环，环绕设置于上电极外周，包括一内壁表面，第一隔离环可在第一位置和第二位置之间移动，第一隔离环位于第一位置，内壁表面与上电极的外周相对，第一隔离环位于第二位置，内壁表面暴露于上电极和下电极形成的处理区域内；第二隔离环，环绕设置于第一隔离环外周。本申请使
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113745081 A
(43)申请公布日
2021.12.03
(21)申请号 20201
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