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                本申请公开了一种利用高纯超临界二氧化碳清洗LED晶圆的清洗系统,涉及晶圆清洗的技术领域,其包括用于提供高纯超临界二氧化碳的供气部,所述供气部的出气侧连通设置有用于晶圆进行清洗的处理器,所述处理器远离供气侧连通设置有尾气排放管,所述尾气排放管远离处理器一侧连通设置有用于分离高纯超临界二氧化碳的尾气处理装置,所述尾气处理装置包括恒温水箱以及压力分离器,所述恒温水箱与尾气排放管相连通,所述压力分离器与恒温水箱相连通,所述尾气处理装置连通设置有回收精馏二氧化碳的通气管。本申请能够利用超临界二氧化碳完成对
                    
   (19)国家知识产权局 
                             (12)发明专利申请 
                                                     (10)申请公布号 CN 115401030 A 
                                                     (43)申请公布日 2022.11.29 
   (21)申请号  202211074352.2 
   (22)申请日  2022.09.03 
   (71)申请人 福建久策气体股份有限公司 
      地址  3
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