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- 2023-07-02 发布于四川
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本发明提供了一种用于单片湿处理制程的槽式工艺系统,其中,用于单片湿处理制程的槽式工艺系统包括清洗槽、基片夹具以及驱动装置,基片夹具与驱动装置连接;清洗槽内注入有工艺液体;基片夹具用于夹持基片,基片可在驱动装置的驱动下浸入清洗槽的工艺液体内以进行湿处理工艺。本发明提供的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统,基片夹具一次仅夹持一个基片,该基片在驱动装置的驱动下浸入工艺液体,一方面避免了基片间交叉感染的风险,另一方面也确保了基片与工艺液体的充分、均匀接触,提高了清洗效果。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113714201 A
(43)申请公布日 2021.11.30
(21)申请号 202111077708.3
(22)申请日 2021.09.15
(71)申请人 新阳硅密(上海)半导体技术有限公
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