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- 2023-07-03 发布于四川
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本发明公开了一种改善物理气相沉积金属氮化物薄膜方阻均匀性的装置，包括腔体组件,腔体组件周侧设置安装有冷泵,冷泵底端设置安装有高度调节组件,高度调节组件内设置安装有卡合组件,高度调节组件后方设置安装有高度限位组件，腔体组件包括腔壳,腔壳顶端设置有与腔壳卡合连接的腔壳顶盖,腔壳外侧固定安装有进气口。本发明通过设置有两个进气口，使得工艺气体Ar和N2在腔体中保持均匀分布，沉积出的金属氮化薄膜方阻均匀性最优，通过设置有高度调节组件和高度限位组件，可以调节冷泵的打开程度，从而控制腔体压力，优化工艺在腔体中
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113755812 A
(43)申请公布日 2021.12.07
(21)申请号 202111087652.X
(22)申请日 2021.09.16
(71)申请人 盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
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