原创力文档- 1、本文档共23页，其中可免费阅读22页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
一种半导体结构及其形成方法，包括：提供衬底，所述衬底上具有鳍部；在所述鳍部内形成若干外延掺杂层；在所述鳍部内形成扩散区，所述扩散区包围所述外延掺杂层；在所述衬底上形成介质层，位于所述介质层内具有第一开口；在所述鳍部内形成第二开口，刻蚀工艺对所述鳍部的刻蚀速率大于对所述扩散区的刻蚀速率。由于所述刻蚀的工艺对所述扩散区和所述鳍部的刻蚀速率不同，因此，所述刻蚀的工艺在刻蚀所述鳍部时，能够较小的对所述扩散区造成的刻蚀损伤，由于所述扩散区包围所述外延掺杂层，进而在刻蚀所述鳍部时能够避免对所述外延掺杂层的刻
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113764273 A
(43)申请公布日
2021.12.07
(21)申请号 20201
文档评论（0）