一种无掩膜版的图案化薄膜制备方法.pdfVIP

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2023-07-03 发布于四川
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一种无掩膜版的图案化薄膜制备方法.pdf

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本发明公开了一种无掩膜版的图案化薄膜制备方法。本发明采用激光直写将镀膜材料镀于预处理后的待镀基底上，得到图案化薄膜。当待镀基底位于镀膜材料的上方时，镀膜材料上放上待镀基底，按照设定的图形激光照射，激光透过待镀基底，打在片状/块状镀膜材料上，被打到的镀膜材料形成材料的团簇，溅射到待镀基底上。当待镀基底位于镀膜材料的下方时，在待镀基底上放上镀膜材料，按照设定的图形激光照射，激光打到镀膜材料上，并穿透镀膜材料，该镀膜材料作为镀膜源形成材料的团簇，溅射到待镀基底上。本发明的方法不使用掩膜版，简单实用，成

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113755798 A (43)申请公布日 2021.12.07 (21)申请号 202110493632.6 (22)申请日 2021.05.07 (71)申请人济南大学地址 25