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本发明涉及太阳能电池制造领域,公开了太阳能电池在镀膜生产中提升非晶硅表面洁净度的方法,在RPD装置的镀膜过程中,将载板上装载单晶硅片,然后在载板上加盖一个适配的盖板,然后加装盖板的载板依次进入RPD装置的装载腔、前缓冲腔、工艺腔、后缓冲腔、卸载腔和卸载平台,并在卸载平台卸载盖板,同时将单晶硅片进行翻片,重复镀膜过程;通过在待镀透明导电性薄膜的硅片的载板上增加一盖板,避免在镀膜过程中腔体内未被有效利用的透明导电薄膜粉尘在工艺气体的吹扫下附着在硅片上表面的现象,从而提升异质结太阳能电池的光电转换效率
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113764543 B
(45)授权公告日 2022.01.25
(21)申请号 202111323920.3 (51)Int.Cl.
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