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本发明公开了一种半导体级硅粉的纯化方法,属于半导体材料加工技术领域;该方法是先将待纯化的硅粉置于感应加热炉内,在真空状态下升温至1000‑1300℃;真空度为4.5‑5.5×10‑6mbar;之后在炉腔中注入高纯H2至700‑900mbar;随后再抽真空至原始真空度;将氯化氢与氩气以流量比7‑9:1.5‑2.5通入腔体内,通气至压力为700‑900mbar,保持4‑6h,之后将炉体内压力降至<10mbar;本发明有效提高硅粉的纯度,纯化后的硅粉满足生产高纯碳化硅粉料的纯度要求;同时也降低了
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113772675 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202111337818.9
(22)申请日 2021.11.12
(71)申请人 山西烁科晶体有限公司
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