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用于超表面加工的光刻系统及方法.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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用于超表面加工的光刻系统及方法.pdf

    本申请实施例提供了一种用于超表面加工的光刻系统及方法，属于超表面领域。该系统包括包括光源、曝光投影系统和将光刻对象的第一面和第二面对准的双面标记对准系统，双面标记对准系统包括准直光源、显微系统、工作台及控制系统，为了进行超表面的光刻系统的双面曝光对准，该光刻系统还包括用于对光刻对象做对准标记的标记单元；其中，所述工作台用于实现所述光刻对象的移动和旋转，所述工作台的精度为百纳米至微米级精度；光源和曝光投影系统配置成：在借助于所述双面标记对准系统将光刻对象对准的情况下，对光刻对象分别进行第一面和第二

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113791524 A (43)申请公布日 2021.12.14 (21)申请号 202111166696.1 (22)申请日 2021.09.30 (71)申请人 深圳迈塔兰斯科技有限公司

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