位移测量系统及光刻设备.pdfVIP

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2023-07-05 发布于四川
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位移测量系统及光刻设备.pdf

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本发明提供了一种位移测量系统和光刻设备，涉及光栅测量技术领域，包括光栅安装板以及沿第一方向依次设置在光栅安装板上的曝光位光栅和预处理位光栅，曝光位光栅和预处理位光栅分别包括一回字型光栅；还包括工件台以及间隔设置在工件台表面的探测机构，工件台与光栅安装板沿第二方向间隔设置，探测机构与曝光位光栅和预处理位光栅配合，用于提供位移测量系统的测量基准；第一方向与第二方向垂直，曝光位光栅和预处理位光栅分别包括一回字型光栅，当工件台沿第一方向由预处理位向曝光位换台操作时，探测机构仅需要经过曝光位光栅和预处理位

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113804112 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 202110940333.2 (22)申请日 2021.08.16 (71)申请人北京