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- 2023-07-05 发布于四川
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本发明公开了一种改善金属剥离效率的光刻版,包括:基版、梯形台结构和铬层,基于一种改善金属剥离效率的光刻版提出了一种光刻方法,在基片表面均匀涂覆一层负性光刻胶,对涂胶后的基片进行一次烘烤,将光刻版通过压力压入涂有负性光刻胶的基片,同时进行抽真空处理,确保光刻胶与光刻版上的梯形台结构完全紧密接触,随后利用紫外曝光对基片进行曝光并形成带有与梯形台结构角度相同的倒角光刻胶结构,随后进行二次烘烤,对烘烤后的基片进行沉积和剥离,通过剥离基片上的负性光刻胶,保留所需要的金属图形,通过一次光刻对倒角光刻胶结构的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113805432 A
(43)申请公布日
2021.12.17
(21)申请号 20201
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