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掩模处理装置及基板处理装置.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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掩模处理装置及基板处理装置.pdf

    本发明构思提供一种掩模处理装置及基板处理装置。该掩模处理装置可以包括：支承单元，其支承该掩模；及光辐照单元，该光辐照单元通过光辐照该掩模以调整形成于该掩模中图案的关键尺度，其中该光辐照单元包括产生该光的光源及光调制组件，该光调制组件调制由该光源产生的该光且形成辐照图案。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116382027 A (43)申请公布日 2023.07.04 (21)申请号 202211728938.6 G03F 7/20 (2006.01) (22)申请日 2022.12.3

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