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- 2023-07-05 发布于四川
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本文提供一种用于基板处理腔室的杂散等离子体预防的设备。在一些实施例中，用于在基板处理腔室中预防杂散等离子体的设备包含：管状主体，所述管状主体由介电材料形成且限定从管状主体的第一端通过管状主体到管状主体的第二端的中心开口；以及轮缘，所述轮缘从管状主体的第一端径向延伸。设备可由工艺兼容的塑料材料形成，诸如聚甲醛(POM)、聚醚醚酮(PEEK)、或聚四氟乙烯(PTFE)。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113811979 A
(43)申请公布日 2021.12.17
(21)申请号 202080034956.7 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公
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