边缘环和等离子体处理装置.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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本发明提供边缘环和等离子体处理装置。抑制反应产物在载置处理对象体的载置台中附着于载置面的周缘部。一种边缘环,其以包围在载置台的载置面载置的处理对象体的方式设于所述载置台,其中,该边缘环包括:第1环部,其在低于所述载置面的位置具有表面;以及第2环部,其设于所述第1环部的径向外侧,且在高于所述载置面的位置具有表面,所述第1环部的表面具有凹凸形状。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113808968 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 202110597924.4 (22)申请日 2021.05.31 (30)优先权数据

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