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基片处理装置和气体供给配管的吹扫方法.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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基片处理装置和气体供给配管的吹扫方法.pdf

    本发明提供能够抑制供给配管内的腐蚀，并且更安全地将处理腔室大气开放的基片处理装置和气体供给配管的吹扫方法。基片处理装置包括处理腔室、气体供给配管、处理气体配管、吹扫气体配管和连动开放部。处理腔室是在内部能够用腐蚀性的处理气体对基片实施处理的处理腔室。气体供给配管是与处理腔室连接，连通至处理腔室的内部的配管。处理气体配管经由第一阀连接到气体供给配管，将处理气体导入气体供给配管。吹扫气体配管在第一阀的处理腔室侧，经由第二阀连接到气体供给配管，将吹扫气体导入气体供给配管。连动开放部在第一阀关闭的状态下

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113808971 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 202110637181.9 (22)申请日 2021.06.08 (30)优先权数据

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