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一种等离子体处理装置及其调节方法.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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一种等离子体处理装置及其调节方法.pdf

    本发明公开了一种等离子体处理装置及其调节方法，该装置包含：真空反应腔，包括反应腔侧壁，所述反应腔侧壁设有基片传输口；下电极组件，设于所述真空反应腔内底部；等离子体约束装置，设于所述下电极组件的外围；接地环，设置于所述等离子体约束装置下方；调节装置，用于调节所述基片传输口周围所述等离子体约束装置和所述接地环之间不同相位角上的间距以改变两者之间的电容大小。其优点是：采用调节装置调节等离子体约束装置和接地环之间不同相位角上的间距以改变两者之间的电容大小，从而补偿各因素引起的刻蚀不对称，达到最优刻蚀对称

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113808897 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 20201

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