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2023-07-05 发布于四川
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一种器件制造方法，该器件制造方法使用具有局部浸没系统的光刻装置，局部浸没系统用于将浸没液体限制到投影系统和要由投影系统曝光的基板之间的空间，该方法包括：·提供用于衬底的初始路由以在其上曝光多个场；·预测所述衬底上的第一位置的集合，当使用初始路由被曝光时，衬底上的第一位置集合具有来自浸没系统的剩余液体的风险；·确定对初始路由的修改集合，以降低剩余损失的风险；·使用初始路由对至少一个测试衬底进行测试曝光(S2)；·在所曝光的测试衬底中获得(S4)缺陷的第二位置集合；·通过比较第一位置和第二位置来选择

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113811817 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 202080029285.5 J ·A ·维埃拉 ·萨拉斯　 (22)申请日 2

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