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本发明公开一种相变存储器及其制备方法,相变存储器包括衬底、底电极层、介电材料层、顶电极层以及呈层叠设置的选通材料层和相变材料层,底电极层设于衬底的上侧,底电极层包括本体和自本体的上侧向上延伸的凸起部;介电材料层设于底电极层的本体的上侧且环绕凸起部的周向设置;顶电极层设于介电材料层的上侧;呈层叠设置的选通材料层和相变材料层设于介电材料层和顶电极层之间,选通材料层和相变材料层其中之一与介电材料层邻接,且与凸起部的上表面接触,另一与顶电极层邻接,选通材料层的材质包括六方相氮化硼;底电极层和顶电极层中与
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113838886 A
(43)申请公布日 2021.12.24
(21)申请号 202111022550.X
(22)申请日 2021.09.01
(71)申请人 深圳大学
地址 51
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