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本发明提供一种反应腔体及其处理方法，反应腔体用于在衬底上形成含碳的无定型陶瓷膜，包括：衬底支撑座，衬底支撑座用于作为一端电极且用于对衬底进行加热，衬底支撑座的表面和反应腔体内壁依次形成有第一保护膜和第二保护膜，第一保护膜为氧化物陶瓷薄膜，第二保护膜为含碳的无定型陶瓷膜。这样，通过在反应腔体内壁上和衬底支撑座表面形成结构致密的氧化物陶瓷薄膜，衬底支撑座的表面上的氧化物陶瓷薄膜将衬底与衬底支撑座隔离开，避免衬底支撑座上的离子扩散至衬底表面，同时反应腔体内壁上的氧化物陶瓷薄膜避免反应离子或杂质离子粘附
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113823546 A
(43)申请公布日 2021.12.21
(21)申请号 202010565083.4
(22)申请日 2020.06.19
(71)申请人 拓荆科技股份有限公司
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