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本发明提供形成三维微结构在诸如导光板或集成电路等等的方法和装置。本发明一方面让具有一或多特殊轮廓光罩的光罩数组与被光阻层所覆盖的底材二者间相对运动,另一方面让被投射经过光罩数组的各个光线可以被个别地且动态地调整,借以将光阻层曝光成为不同部份对应到不同三维微结构的图案化光阻层。特别地,光罩数组与底材间的相对运动方向,系与光罩数组的行方向与列方向都相互交叉的。透过调整此相对运动方向,将可以至少调整光阻层如何被图案化以及相对应地形成在底材的各个三维微结构的轮廓与分布方式。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113835294 A
(43)申请公布日 2021.12.24
(21)申请号 202110579299.0
(22)申请日 2021.05.26
(30)优先权数据
63/042,60
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