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具有均匀窗口的CMP抛光垫.pdfVIP

具有均匀窗口的CMP抛光垫.pdf

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    一种用于化学机械抛光的抛光垫包括：抛光部分，所述抛光部分具有顶部抛光表面并且包含抛光材料；开口，所述开口穿过所述抛光垫；以及透明窗口，所述透明窗口在所述抛光垫中的所述开口内，所述透明窗口被固定到所述抛光垫、并且对磁信号和光学信号中的至少一种是透明的，所述透明窗口具有厚度和顶部表面，所述顶部表面具有被相互连接的凹陷分开的多个元件，以在所述顶部表面中提供包括凹陷的图案，以便改善抛光期间向抛光垫中的空腔内的挠曲。

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