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- 2023-07-07 发布于四川
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本申请实施例提供一种提高薄膜均匀性的方法,包括:根据注入参数,确定向晶圆第一注入面注入的第一注入剂量,以及,向晶圆第二注入面注入的第二注入剂量,按照第一注入剂量向晶圆第一注入面注入;按照第二注入剂量向晶圆第二注入面注入;向晶圆第一注入面注入第三注入剂量,第三注入剂量不大于临界注入剂量;如果向晶圆第一注入面注入的离子总注入剂量达到目标注入剂量,则将第一注入面与衬底层键合,得到键合体;对键合体热处理,在衬底层上形成薄膜层。将目标注入剂量分步向第一注入面注入,同时配合向第二注入面注入,以抵消第一注入面
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113871293 A
(43)申请公布日 2021.12.31
(21)申请号 202010619638.9
(22)申请日 2020.06.30
(71)申请人 济南
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