原创力文档- 3
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- 2023-07-07 发布于四川
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一种等离子体处理装置及其边缘气体组件，其中，等离子体处理装置包括：真空反应腔，其包括顶盖，所述顶盖具有贯穿顶盖的开口，真空反应腔内底部具有基座，所述基座用于承载待处理基片；安装基板，位于所述开口内；气体喷淋头，位于所述安装基板的下方，所述气体喷淋头与基座相对设置；边缘气体组件，环绕于所述气体喷淋头的外围，包括至少两个互相隔离的边缘气体调节区，每个所述边缘气体调节区设置进气通道和出气通道，所述出气通道朝向待处理基片的边缘区域；气体源，用于向所述边缘气体调节区输送气体，且各个边缘气体调节区的气体输送
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113871280 A
(43)申请公布日 2021.12.31
(21)申请号 202010618286.5
(22)申请日 2020.06.30
(71)申请人 中微半导体设备（上海）股份有限公
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