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- 2023-07-07 发布于四川
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一种化学机械抛光设备，包括：平台，所述平台用于保持抛光垫；载体，所述载体通过致动器可在整个抛光垫上横向移动以在抛光工艺期间将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；热控制系统，所述热控制系统包括多个可独立控制的加热器和冷却器以独立地控制抛光垫上的多个区的温度；以及控制器，所述控制器经配置为使热控制系统在抛光垫上生成具有第一温度的第一区和具有不同的第二温度的第二区。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113874165 A
(43)申请公布日 2021.12.31
(21)申请号 202080036814.4 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公
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