半导体设备及方法.pdfVIP

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2023-07-08 发布于四川
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半导体设备及方法.pdf

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本申请涉及一种半导体设备。在本申请的一个实施例中，半导体设备包括：吸盘，其包括上表面和与所述上表面相对的下表面；底板，其设置在所述吸盘的下方以支撑所述吸盘；以及变形装置，其设置在底板中并且接触所述吸盘的所述下表面的一部分，以使所述吸盘随所述变形装置的变形而发生变形；其中所述变形装置包括活塞和位移传感器，所述位移传感器用于记录所述活塞的位移。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116403928 A (43)申请公布日 2023.07.07 (21)申请号 202111613633.6 (22)申请日 2021.12.27 (71)申请人拓荆键科（海宁）半导体设备有限公