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本发明涉及一种复合型TMBS器件结构,它包括作为基片的第一导电类型浓掺衬底;在第一导电类型的浓掺衬底上设置有第一导电类型的轻掺杂外延层;在第一导电类型的轻掺杂外延层上刻蚀形成一定间距的硅沟槽阵列,在硅沟槽的下半部分硅内侧壁上形成一定厚度的SiO2层,硅沟槽的上半部分外侧壁形成一薄层的第二导电类型的浓掺杂区;在整个硅沟槽填充满第二导电类型的浓掺杂Poly,Poly顶部表面与外延层表面齐平;在外延层和硅沟槽填充的Poly表面设置有形成肖特基结的肖特基势垒层;在肖特基势垒层上设置有作为电极金属的金属层
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 108470719 A
(43)申请公布日
2018.08.31
(21)申请号 20181
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