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本发明提供了一种纳米压印抗蚀剂及其制备方法和应用。该抗蚀剂由聚己内酯二醇、官能化的六芳基联咪唑在催化剂的催化条件下与甲苯二异氰酸酯发生加成聚合，制备得到；其中，所述官能化的六芳基联咪唑的分子式如式(Ⅰ)所示，该抗蚀剂在30～60℃、405～450nm，光功率密度≥3mW/cm2的可见光照射下，聚合物网络结构中的六芳基联咪唑单元中的两个咪唑环之间的动态C‑N共价键裂解，转化为具有流动性的低分子量聚合物，避光静置后，聚合物网络结构中的C‑N动态共价键复合，恢复为高聚物，该抗蚀剂既可以避免在高温下衬底
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116396460 A
(43)申请公布日 2023.07.07
(21)申请号 202310325280.2
(22)申请日 2023.03.29
(71)申请人 湖北九峰山实验室
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