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- 2023-07-12 发布于四川
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本发明公开了一种电致浸润无残余层纳米压印装置,包括上部透明电极、下部结构化电极、纳米压印模板、纳米压印胶和纳米压印衬底,所述上部透明电极与下部结构化电极之间设有外部电压,所述下部结构化电极的顶部设有纳米压印衬底,所述纳米压印衬底上沉积有纳米压印胶,所述纳米压印胶与上部透明电极之间设有纳米压印模板,所述上部透明电极的上方设有紫外固化装置。本发明通过外加电压,可根据纳米压印模板的结构要求而分区调节电压,从而使纳米压印胶受电场力、毛细力以及本征张力的多种作用,使得纳米压印胶流体在模板图案中完全铺展,以
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116413998 A
(43)申请公布日 2023.07.11
(21)申请号 202310408940.3
(22)申请日 2023.04.18
(71)申请人 璞璘科技(杭州)有限公司
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