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                一种半导体器件包括:衬底,具有由器件隔离区限定的有源区;导电线,在有源区上沿一方向延伸;绝缘衬垫,在导电线的下部的两个侧壁上,导电线的下部与有源区接触;间隔物,在与衬底的表面垂直的方向上与绝缘衬垫隔开,并且顺序地形成在导电线的上部的两个侧壁上;阻挡层,布置在绝缘衬垫与位于所述多个间隔物中间的间隔物之间的间隔处,并且在从位于所述多个间隔物中间的间隔物的一端朝导电线凹入的凹陷部分中;以及导电图案,布置在所述多个间隔物两侧的有源区上。
                    
  (19)中华人民共和国国家知识产权局 
                            (12)发明专利申请 
                                                     (10)申请公布号 CN 110767653 A 
                                                     (43)申请公布日  
                                                                  2020.02.07 
  (21)申请号 20191
                
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