原创力文档- 3
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- 2023-07-13 发布于四川
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本实用新型提供的一种可调控双折射的光纤光栅制备装置，包括：激光加工光路系统、位移平台；所述激光加工光路系统包括激光器装置、激光整形装置、和控制装置；所述激光整形装置用于对激光器装置发射的激光进行整形处理，经整形处理的激光聚焦到光纤上；所述控制装置与激光整形装置相连接，用于控制并调整激光整形装置；位移平台用于带动光纤移动，以便使激光在光纤上诱导形成折射率调制区域，从而形成光纤光栅。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214174668 U
(45)授权公告日 2021.09.10
(21)申请号 202120291998.0
(22)申请日 2021.02.02
(73)专利权人 深圳大学
地址 5
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