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- 2023-07-14 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶片清洗槽,涉及半导体材料技术领域。本实用新型的一种晶片清洗槽,包括槽体以及和槽体相匹配的槽盖,所述槽体内固定安装有旋转装置,所述旋转装置包括转动安装在槽体底面的旋转底座,以及安装在旋转底座上的转动机构和两组驱动机构,所述转动机构包括转动轴,所述转动轴上套设有转动柱,所述转动轴的两端和对应的驱动机构之间连接有支撑杆,一侧所述支撑杆上固定安装有旋转电机,所述旋转电机的输出轴和转动轴固定连接。本实用新型公开了一种晶片清洗槽,通过在槽体内设置的旋转装置,保证了晶片各部分在清洗的过程
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214184328 U
(45)授权公告日 2021.09.14
(21)申请号 202022458766.8
(22)申请日 2020.10.29
(73)专利权人 威科赛乐微电子股份有限公司
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