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本实用新型提供一种用于烧制天铁釉瓷器的新型窑炉,包括支撑底台,窑炉,封盖滑槽,上方入氧设备,上方导氧管,下方入氧设备,下方导氧管,主发热组件,辅助发热组件,连接滑槽和盛放架,其中:窑炉通过螺栓安装在支撑底台的表面,且封盖滑槽设置在窑炉的前方,该上方入氧设备镶嵌在窑炉上方的两端;所述上方导氧管通过螺栓安装在上方入氧设备的上方,且下方入氧设备镶嵌在窑炉下方的两端,该下方导氧管通过螺栓安装在下方入氧设备的两端;所述主发热组件通过螺栓安装在窑炉的内壁上。本实用新型上方入氧设备,下方入氧设备,主发热组件,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214199675 U
(45)授权公告日 2021.09.14
(21)申请号 202022838376.3
(22)申请日 2020.12.01
(73)专利权人 龙泉剑村艺术品有限公司
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