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本发明公开了一种具有差分结构的高温光电压力传感芯片的晶圆级制造方法,采用微电子深刻蚀方法,直接在单晶硅晶圆上制造垂直方向的法珀腔,同时在硅晶圆上制造水平方向的光束传输的硅基条形波导,形成硅基法珀式压力传感器,器件具有单侧结构,具有进一步放大压力信号的功能。制造方法与微电子工艺完全兼容,可以满足大规模批量化生产的需求,且可以实现电‑光‑传感的晶上系统集成。此外,本发明的器件结构和制造工艺中没有易受温度影响的硅基掺杂工艺和金属化工艺,可以在接近硅基材料弹性形变极限温度的高温环境中工作。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116425110 A
(43)申请公布日 2023.07.14
(21)申请号 202310686427.0
(22)申请日 2023.06.12
(71)申请人 之江实验室
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