包括壳体的可配置后处理系统.pdfVIP

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2023-07-15 发布于四川
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包括壳体的可配置后处理系统.pdf

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一种后处理系统包括壳体，壳体限定彼此流体隔离的第一内部容积和第二内部容积。第一后处理支路从第一内部容积延伸到第二内部容积，并包括氧化催化器和过滤器。氧化催化器从入口导管接收排气，并且过滤器将排气排放到第二内部容积中。第二后处理支路从第二内部容积延伸到第一内部容积，并包括被设置成相对于第一后处理支路偏移的至少一个SCR催化器。分解管被设置成相对于SCR催化器和氧化催化器偏移。分解管被配置成接收来自第二内部容积的排气并将排气传送到至少一个SCR催化器的入口。还原剂注入入口被限定在分解管入口附近，用于

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115398085 A (43)申请公布日 2022.11.25 (21)申请号 202180027854.7 兰迪 ·G ·佐兰　 (22)申请日 2021.04.27