新型高溅射率磁控旋转圆柱靶.pdfVIP

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2023-07-18 发布于四川
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新型高溅射率磁控旋转圆柱靶.pdf

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本实用新型公开了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，涉及磁控旋转圆柱靶技术领域，为解决现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定，溅射效率不够高的问题。所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块，所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套，所述连接传动套的另一侧安装有固定限位板，所述固定限位板的另一侧安装有固定腔体套，所述固定腔体套的另一侧安装有传动陶瓷轴承，所述传动陶瓷轴承的另一侧安装有部件安装架，所述部件安装架另一侧的上方安装有伺服电机，所述伺服电机的下方安装有电器工作箱，所述部件安装架的另一端设置有连接固定套

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214218843 U (45)授权公告日 2021.09.17 (21)申请号 202023320966.3 (22)申请日 2020.12.31 (73)专利权人莱糸真空科技（常州）有限公司