一种镀膜基板的均匀控温装置.pdfVIP

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  • 2023-07-20 发布于四川
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本实用新型涉及真空镀膜机技术领域,尤其涉及一种镀膜基板的均匀控温装置及方法。包括镀膜基板(6),它包括固定结构、设有液体流道(4)的导热结构以及用于带动液体流道(4)内的液体循环流动的液体循环系统,所述镀膜基板(6)固定在固定结构内,所述固定结构设置在导热结构上,而且所述镀膜基板(6)与导热结构之间还设有密闭空腔,并且它还包括用于带动密闭空腔内的气体循环流动的气体循环系统。该装置采用气体、液体联动给镀膜基板降温,实现对镀膜基板均匀控温。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214271034 U (45)授权公告日 2021.09.24 (21)申请号 202120007805.4 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 (22)申请日 2021

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