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- 2023-07-20 发布于四川
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本公开内容的实现方式提供在热处理期间改善气体分布的设备和方法。本公开内容的一个实现方式提供一种用于处理基板的设备,该设备包含界定处理容积的腔室主体,安置在处理容积中的基板支撑件,其中所述基板支撑件具有基板支撑表面、耦接至腔室主体的入口的气源组件、耦接至腔室主体的出口的排气组件、和耦接至腔室主体的侧壁的侧气体组件,其中所述侧气体组件包含指向与基板支撑表面的边缘相切的方向的气体入口,以及其中所述气体入口、所述腔室主体的入口、和所述腔室主体的出口相对于彼此以约90°成角度地偏移,以及所述气体入口、所述
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 107403717 A
(43)申请公布日
2017.11.28
(21)申请号 20171
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