一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶.pdfVIP

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  • 2023-07-21 发布于四川
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一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶.pdf

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域,公开了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶,包括靶支架,所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口,且靶支架的一侧下部固定连接有电机,所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔,且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构,所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮,且靶腔的内部固定连接有靶材,所述注水口的一侧固定连接有进水管,所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。本实用新型通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔,在电机的作用下,带动转轴的旋转,从而带动第二齿

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214300327 U (45)授权公告日 2021.09.28 (21)申请号 202022505954.1 (22)申请日 2020.11.03 (73)专利权人 上海繁枫真空科技有限公司

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