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用于半导体功能材料表面缺陷调控的等离子体反应装置.pdfVIP

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  • 2023-07-21 发布于四川
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用于半导体功能材料表面缺陷调控的等离子体反应装置.pdf

    本实用新型公开了一种用于半导体功能材料表面缺陷调控的等离子体反应装置，包括密封箱体、阴极板、阳极板、进气管路和真空泵；密封箱体的一个侧面设有舱门，进气管路设置在密封箱体的其他侧面，与设置进气管路相对的另一个侧面设有真空泵，密封箱体内部的顶面和底面分别设置阴极板和阳极板，阴极板和阳极板均通过一个伸缩杆与密封箱体连接。本实用新型结构设计巧妙，灵活实用性强，制作简单成本低廉，专门用于对半导体功能材料表面进行处理以增强其缺陷密度，进而达到增强其催化活性、气敏传感特性的效果。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214277995 U (45)授权公告日 2021.09.24 (21)申请号 202120404168.4 (22)申请日 2021.02.24 (73)专利权人 徐州医科大学 地址

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