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- 2023-07-21 发布于四川
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本实用新型公开了一种清洁晶圆，一种等离子体处理装置及处理方法，包括一反应腔，所述反应腔包括：进气装置，用于向所述反应腔输送清洁气体；射频电源，用于将所述清洁气体解离为清洁等离子体；清洁晶圆；静电吸盘，用于承载所述清洁晶圆，清洁晶圆与静电吸盘之间设置一支撑装置，所述支撑装置使得清洁晶圆背面与静电吸盘表面之间形成一定高度，进而使得清洁晶圆边缘区域的背面与聚焦环的上表面形成一定缝隙，避免对聚焦环上表面和聚焦环与静电吸盘之间的缝隙造成遮挡，使得清洁等离子体能有效清除聚焦环第二上表面和缝隙内的沉积物。保证
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214279906 U
(45)授权公告日 2021.09.24
(21)申请号 202120679182.5 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
(22)申请日 2021
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