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本发明的荧光X射线分析装置所具有的排除机构(21)：对于基底层中不含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，假定该成分单独构成薄膜来计算其附着量，将最大附着量设定为该成分的附着量的初始值；对于基底层中包含测定元素的成分，针对每条相应的测定线，基于基底层中不包含测定元素的每个成分的附着量的初始值来计算其附着量；在所有对应的测定线的计算结果均有误差的情况下，将该成分作为不能定量的成分从分析对象中排除，在除此以外的情况下，将最大的附着量设定为该成分的附着量的初始值。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116472452 A
(43)申请公布日 2023.07.21
(21)申请号 202180072774.3 (74)专利代理机构 北京三幸商标专利事务所
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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