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硅层刻蚀剂组合物、制备其的方法及形成图案的方法.pdfVIP

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  • 2023-07-22 发布于四川
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硅层刻蚀剂组合物、制备其的方法及形成图案的方法.pdf

    一种硅层刻蚀剂组合物、制备其的方法及形成图案的方法，所述组合物包含约1重量％到约20重量％的烷基氢氧化铵；约1重量％到约30重量％的胺化合物；约0.01重量％到约0.2重量％的包括疏水基团及亲水基团两者的非离子表面活性剂；以及水，所有重量％都是基于所述硅层刻蚀剂组合物的总重量。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111410963 A (43)申请公布日 2020.07.14 (21)申请号 20201

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