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本发明公开了一种大口径二维连续偏振调制元件及制备方法。该元件表面具有二维点阵式内应力分布,每一应力点均可实现线偏振光‑椭圆偏振光‑圆偏振光‑椭圆偏振光‑圆偏振光‑线偏振光的连续偏振调制。该元件制备包括:选取抗热冲的光学玻璃作为基板;在基板某局部点进行热处理引入热残余应力作为内应力,并基于内应力的双折射效应实现该局部点的偏振连续调制;通过在基板表面引入二维热残余应力阵列实现了大口径二维连续偏振调制。该方法不仅极大简化了大口径二维连续偏振调制元件的制作流程,避免了使用昂贵的超大尺寸晶体材料,而且还实
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116466425 A
(43)申请公布日 2023.07.21
(21)申请号 202310270554.2
(22)申请日 2023.03.20
(71)申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究
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