一种用于真空蒸馏的钨坩埚.pdfVIP

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2023-07-23 发布于四川
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一种用于真空蒸馏的钨坩埚.pdf

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本实用新型公开了一种用于真空蒸馏的钨坩埚，包括钨坩埚本体，钨坩埚本体为纯钨制成的桶形结构，钨坩埚本体上部外表面同心设置有环形凸台，且环形凸台与钨坩埚本体上缘有一定高度，环形凸台上沿轴向方向设置有螺纹孔，环形凸台与钨坩埚本体是一体成型的，环形凸台上的螺纹孔在两个以上，且螺纹孔等距设置在环形凸台上，环形凸台上端离钨坩埚本体上缘的距离为2~6mm，螺纹孔的孔径为M5~M8，钨坩埚本体外径为155~200mm，高度为240~280mm；环形凸台外径为170~198mm，高度为8~10mm，钨坩埚本体重量

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214300319 U (45)授权公告日 2021.09.28 (21)申请号 202023235056.5 (22)申请日 2020.12.29 (73)专利权人株洲硬质合金集团有限公司