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本实用新型公开了一种新型遮光型光热浮区法晶体生长装置,包括椭球面反射镜、光源及光圈遮光机构,椭球面反射镜包括纵向上相对设置的第一椭球面反射镜、第二椭球面反射镜,本晶体生长装置内将两个椭球面反射镜的镜外焦点重合,纵向上位于下方的椭球面反射镜的镜内焦点处固定光源,上方椭球面反射镜的镜内焦点处安置晶体原料棒、籽晶等即可实现晶体培育,在聚焦发出的光的前进路径上增加了相机或摄像头中用到的光圈遮光机构,以驱动环驱使多个光阑片进行合拢、张开等动作,无论光圈遮光机构的通光量为多少,焦点处温度场均呈轴对称分布,使
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214300452 U
(45)授权公告日 2021.09.28
(21)申请号 202120218156.2
(22)申请日 2021.01.26
(73)专利权人 上海大学
地址 2
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