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本实用新型提供一种物理气相沉积金属氧化物或氮化物薄膜的设备，在腔体内用永磁装置通过直流、交流或脉冲直流磁控溅射将金属氧化物或氮化物薄膜沉积到晶圆表面。其中，所述薄膜沉积所用的惰性气体和反应气体分别通过上下两个进气环（上下两个进气环之间有一个蜂窝盘）进入腔体内，实现均匀进气，尤其是反应气体达到均匀分布的效果，从而有效改善金属氧化物或氮化物薄膜的方阻均匀性，亦可避免靶材中毒。同时，所述腔体外侧装有电磁线圈，能在靶材附近产生一个次级磁场，可提高靶材边缘附近的等离子体密度，便于进一步改善薄膜的厚度均匀性
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209890725 U
(45)授权公告日
2020.01.03
(21)申请号 20192
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