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一种抛光结构及其双面抛光装置和单面抛光装置.pdfVIP

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  • 2023-07-26 发布于四川
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一种抛光结构及其双面抛光装置和单面抛光装置.pdf

    本发明公开一种抛光结构及其双面抛光装置和单面抛光装置，属于抛光技术领域，抛光结构包括基座和安装在所述基座上的弹性抛光盘，所述弹性抛光盘与工件之间相对运动对所述工件进行抛光，所述基座与所述弹性抛光盘之间封闭形成压力腔，所述压力腔内填充有工作介质，所述压力腔连接有压力控制装置，所述压力控制装置用于增大或降低所述工作介质的压力以改变所述弹性抛光盘的形变。本发明通过采用弹性抛光盘，利用工作介质调节弹性抛光盘表面的形变，以能够消除工件自身精度不足的问题，使得弹性抛光盘和工件表面良好贴合，相对于现有技术更好

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116475923 A (43)申请公布日 2023.07.25 (21)申请号 202310652387.8 (22)申请日 2023.06.02 (71)申请人 上海致领半导体科技发展有限公司 地

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