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本实用新型公开了一种电波暗室提高暗室性能的新型结构,包括透波层、屏蔽层和吸波角锥底座;透波层的一侧面与屏蔽层连接,透波层的另一侧设置吸波角锥底座,吸波角锥底座上等间距的设有呈棱锥体形状的尖劈吸波体,吸波角锥底座与所述透波层之间设置有铁氧体层,吸波角锥底座不与透波层相接触,铁氧体层与屏蔽层之间设置有间隙,所述间隙的距离为8‑18mm,所述间隙的距离以透波层作隔层。此种结构可帮助提高吸波材料垂直入射最大反射率,特别针对30MHz至1GHz低频阶段有特别的好处,电波暗室最关键的性能指标是NSA误差,提
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209911421 U
(45)授权公告日
2020.01.07
(21)申请号 20192
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