MH_T 6102-2014化学处理致飞机金属晶间腐蚀和端面晶粒点蚀的试验方法.pdf

ICS 19A 21MH中华人民共和国民用航空行业标准MH/T学处理致飞机金属晶间腐蚀和端面晶粒点蚀的试验方法Standard practice for measuring intergranular attack or end grain pittingon metals caused by aircraft chemical processes2014-07-07发布2014-09-01实施中国民用航空局发布 MH/T 言本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草。本标准由中国民用航空局航空器适航审定司提出。本标准由中国民用航空局航空器适航审定司批准立项。本标准由中国民用航空科学技术研究院归口。本标准起草单位：中国民用航空局第二研究所。本标准主要起草人：彭华乔、曾萍、苏正良、夏祖西、邓兵。I MH/T 6102—2014化学处理致飞机金属晶间腐蚀和端面晶粒点蚀的试验方法1范围本标准规定了评估化学处理致飞机金属晶间属蚀和增面晶粒点蚀的试验方法。本标准适用于化学处理致飞机金属晶间腐蚀和端面晶粒点蚀的评估。2规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。IHASTME3金相试样制备方法ASTM G 1试件的制备、清洗和腐蚀评估方法ASTM G 46点蚀的检查和评估方法3术语及定义下列术语和定义适用于本文件。长横向long tranLT垂直于轧制或挤压方向的最长尺寸。3.点蚀pit凹陷处宽度和深度比小于6的点状腐蚀。3. 3短横向short transverseST垂直于轧制或挤压方向的最短尺寸。3. 4表面粗糙度surface roughnessR加工表而上具有的较小间距和峰谷所组成的微观几何形状特性。4仪器设备 MH/T 6102—2014试验仪器设备为：金相显微镜：目镜带刻度，且放大倍数为500X或更大：金相抛光盘：可将试件抛光至R≤0.127m（5Hin）：无腐蚀金相抛光剂：可使试件抛光至R≤0.127m（5Hin）。5试件制备除另有规定外，应按以下步骤制备试件：按图1所示制备至少一个试件，材料从厚板、薄板、挤压件或手工锻件中选取：切割试件，并将试件A面抛光至≤0.812m（32μin），如图1所示。25m (1in)LT3nn-6mm(0. 125in0. 250in)57纹理方向制口方间A面抛光至R小于或等于0.812陷（32μin)图1试件示意图6试验步骤6.1将已抛光试件置于飞机化学处理工艺所规定的环境中，采用化学处理工艺所规定的最高温度和最长时间。在符合性测试中，试件处理包括预清洗、漂洗等，所需的时间应满足相关标准要求，并能达到指定的清洁度。6.2对在室温使用且周期小于8h的化学品，温度应为40.6℃C土1.0℃，且试件暴露时间应不少于24h。应采用一系列的条件，以确保处理过程按预期进行，例如：如果处理温度从10.0℃C～37.8℃(50F～100F)，应记录该温度范围内腐蚀过程的完整性。6.3若需要，应按ASTMG1清洗试件表面的腐蚀产物。清洗过程中应尽量去除金属表面的腐蚀产物，同时避免去除金属基材。6.4处理完毕，观察A面，根据A面腐蚀情况，选择切割点，沿图1所示的虚线方向切割试件。6.5试件在要求温度下暴露到规定时间后，按ASTMG1清洗试件，并按ASTME3镶嵌试件，如图2所示。7结果评估7.1除另有规定外，在100~500放大倍率下观察端面晶粒点蚀和晶间腐蚀情况。7. 2如图3所示，测量蚀孔的最大宽度和最大深度，也可按ASTMG46评估点蚀情况。7. 3如图3所示，测量晶间腐蚀的最大长度，即金属表面沿纹理方向腐蚀的最大长度，2 MH/T 6102—2014试件A面试件 C 面]镶联后，将试件表面B抛光至尺≤0.127陷（5μin），图2试件镶嵌示意图最大宽度最大深度晶间腐蚀和端面晶粒点蚀示意图8试验报告试验报告应至少包括以下内容：化学处理工艺所用化学品信息，如产品配方、材料安全数据单等：化学品制造商：批号：生产日期：稀释比例：所用金属材料及标准：暴露方法，如浸泡、浸挂、涂剧、喷酒或其他：暴露温度：暴露周期： MH/T量到的最大端面晶粒点蚀的深度、宽度和放大倍率；测量到的最大晶间腐蚀的长度和放大倍率：一试验日期：一试验相关人员签名。4